Transient photocapacitance measurement for characterization of deep defects in B-doped diamond films
Transient photocapacitance measurement for characterization of deep defects in B-doped diamond films
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瞬态光电容测量用于表征 B 掺杂金刚石薄膜中的深层缺陷
DOI:
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发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
Osamu Maida and Ryosuke Yamashita
中科院分区:
文献类型:
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作者:
O. Maida;T. Kodama;D. Kanemoto and Tetsuya Hirose;毎田 修,兼本 大輔,廣瀬 哲也;毎田 修,兼本 大輔,廣瀬 哲也;Osamu Maida and Ryosuke Yamashita