Minimal multi-target plasma sputtering tool
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最小多靶等离子溅射工具
DOI：
10.1016/j.vacuum.2019.109000
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
Hara Shiro
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takahashi Kazunori;Saito Taichi;Ando Akira;Yabuta Yuki;Mizuguchi Hisashi;Yamamoto Naoko;Kamei Ryuichiro;Hara Shiro
