Large-scale Molecular Dynamics Simulations on Chemical Mechanical Polishing Process of AlN Substrate with Nanobubbles
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复制标题
纳米气泡AlN基片化学机械抛光过程的大规模分子动力学模拟
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Momoji Kubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sota Kimura;Wang Yang;Narumasa Miyazaki;Yusuke Ootani;Nobuki Ozawa;Momoji Kubo
