Atomic and Electronic study of Co2FeAl0.5Si0.5/Ge(111) interface
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Co2FeAl0.5Si0.5/Ge(111)界面的原子电子学研究
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A. Hirohata and V. Lazarov
中科院分区：
文献类型：
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作者：
B. Kuerbanjiang;Z. Nedelkoski;D. Kepaptsoglou;A. Ghasemi;S. E. Glover;S. Yamada;A. Sanchez;Q. M. Ramasse;T. P. Hase;G. Bell;K. Hamaya;A. Hirohata and V. Lazarov
