Heteroepitaxial growth of AlN by ammonia-free high-temperature metalorganic chemical vapor deposition (AFHT-MOCVD)
Heteroepitaxial growth of AlN by ammonia-free high-temperature metalorganic chemical vapor deposition (AFHT-MOCVD)
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无氨高温金属有机化学气相沉积 (AFHT-MOCVD) 异质外延生长 AlN
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
X.Q. Shen and K. Kojima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Suzuki;K. Yamane;T. Omatsu;R. Morita;X.Q. Shen and K. Kojima
