白戸竜也,木村雄二: "プラズマCVD法により作製されたTiN薄膜の欠陥面積率に対するCPCD法の適用の検討"材料. 49巻2号. 227-233 (2000)
白戸竜也,木村雄二: "プラズマCVD法により作製されたTiN薄膜の欠陥面積率に対するCPCD法の適用の検討"材料. 49巻2号. 227-233 (2000)
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Tatsuya Shirato、Yuji Kimura：“CPCD 方法对等离子体 CVD 方法制造的 TiN 薄膜缺陷面积率的应用研究”材料，第 49 卷，第 227-233 期。
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