薄膜研究のための3.0-GHz Nb 単セル空洞の製造
薄膜研究のための3.0-GHz Nb 単セル空洞の製造
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用于薄膜研究的 3.0 GHz Nb 单电池腔的制造
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐伯 学行
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Ito;T. Nagata;H. Hayano;R. Katayama;T. Kubo;T. Saeki;H. Ito;Y. Iwashita;Yasuhiro Fuwa;片山領;Yoshihisa Iwashita;Takayuki Saeki;久保 毅幸;井藤 隼人;佐伯 学行
