Masaru Hori et al.: "Surface Reaction of CF_2 Radical in Silicon Oxide Selective Etching Process." International Workshop on Basic Aspects of Nonequilibrium Plasmas Interacting with Surface. 1. 11-12 (1996)
Masaru Hori et al.: "Surface Reaction of CF_2 Radical in Silicon Oxide Selective Etching Process." International Workshop on Basic Aspects of Nonequilibrium Plasmas Interacting with Surface. 1. 11-12 (1996)
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Masaru Hori 等人：“二氧化硅选择性蚀刻过程中 CF_2 自由基的表面反应”。
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