Study of local structures in Sn doped Si,Ge thin film for evaluation of Sn concentration
Study of local structures in Sn doped Si,Ge thin film for evaluation of Sn concentration
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研究Sn掺杂Si、Ge薄膜的局部结构以评估Sn浓度
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Ohoyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Hoshi;T. Kanno;M. Takano;W. Keiko;Y. Kobayashi;Y. Tomimatu;K. Kimura;N. Happo;S. Suzuki;M. Dhamrin;K. Fukuda;S. Miyamoto;N. Usami;K. Hayashi;K.Ohoyama
