Y.Hikosaka, M.Nakamura and H.Sugai :"Free Radicals in an Inductively Coupled Etching Plasma" Jpn.J.Appl.Phys.33. 2157-2163 (1994)
Y.Hikosaka, M.Nakamura and H.Sugai :"Free Radicals in an Inductively Coupled Etching Plasma" Jpn.J.Appl.Phys.33. 2157-2163 (1994)
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Y.Hikosaka、M.Nakamura 和 H.Sugai：“感应耦合蚀刻等离子体中的自由基”Jpn.J.Appl.Phys.33。
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