Nonequilibrium Activation of Boron-Implanted Ultra-Shallow Junctions By Femtosecond-Laser Induced Phonon Excitation Process
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飞秒激光诱导声子激发过程非平衡激活硼注入超浅结
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Setsuhara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Takenaka;Y.Setsuhara;K.Nishisaka;A.Ebe;S.Sugiura;K.Takahashi;K.Ono;K.Takenaka;Y.Setsuhara
