Fabrication of ferromagnetic Ni epitaxial thin film by way of hydrogen reduction of NiO
Fabrication of ferromagnetic Ni epitaxial thin film by way of hydrogen reduction of NiO
复制标题
NiO氢还原法制备铁磁Ni外延薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Yoshimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Matsuda;S. Akiba;M. Kasahara;T. Watanabe;Y. Akita;Y. Kitamoto;T. Tojo;H. Kawaji;T. Atake;K. Koyama;M. Yoshimoto
