デバイス動作下硬X線光電子分光法による半導体素子の界面評価
デバイス動作下硬X線光電子分光法による半導体素子の界面評価
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在器件运行下使用硬 X 射线光电子能谱评估半导体器件的界面
DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
山下良之
中科院分区:
文献类型:
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作者:
H. Sano;T. Shima;M. Kuwahara;Y. Fujita;M. Uchiyama;and Y. Aono;山下良之