XFEL sub-10nm focusing system using Wolter type III-based advanced KB mirrors
XFEL sub-10nm focusing system using Wolter type III-based advanced KB mirrors
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XFEL 亚 10nm 聚焦系统使用基于 Wolter III 型的先进 KB 反射镜
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Yabashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Yamada;S. Matsuyama;T. Inoue;N. Nakamura;Y. Tanaka;A. Ito;T. Osaka;I. Inoue;Y. Inubushi;H. Yumoto;T. Koyama;H. Ohashi;K. Yamauchi;and M. Yabashi
