パルスインジェクション法で成長したA1N薄膜の極性と不純物濃度 (Polarity and impurity incorporation of A1N thin films grown by pulse-injection method)

パルスインジェクション法で成長したA1N薄膜の極性と不純物濃度 (Polarity and impurity incorporation of A1N thin films grown by pulse-injection method)
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脉冲注入法生长的AlN薄膜的极性和杂质掺入

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
第54回応用物理学関係連合講演会 27a-ZM-1
影响因子:
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通讯作者:
霜垣幸浩
霜垣幸浩
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
梁正承;ハッサネット・ソーダバンルー;脇一太郎;杉山正和;中野義昭;霜垣幸浩

文献摘要

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