Design and development of synchrotron beam line for rapid etching using XeF_2 gas
Design and development of synchrotron beam line for rapid etching using XeF_2 gas
复制标题
XeF_2气体快速刻蚀同步加速器光束线的设计与开发
DOI：
--
复制
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T. Urisu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Naofumi Nakai;S. Zheng;H. Uno;R. Teruo;K. Suzui;Y. Teraoka;A. Yoshikoshi;Tetsuya Makimura;Kouichi Murakami;T. Urisu
