M.Ito, K.Takeda, T.Shiina, Y.Okamura, H.Nagai, M.Hori, T.Goto: "Silicon oxide etching process employing an electron beam excited plasma"Journal of vacuum science and technology. B22・2. 543-547 (2004)
M.Ito, K.Takeda, T.Shiina, Y.Okamura, H.Nagai, M.Hori, T.Goto: "Silicon oxide etching process employing an electron beam excited plasma"Journal of vacuum science and technology. B22・2. 543-547 (2004)
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M.Ito、K.Takeda、T.Shiina、Y.Okamura、H.Nagai、M.Hori、T.Goto：“采用电子束激发等离子体的氧化硅蚀刻工艺”真空科学技术杂志 B22・2。 .543-547 (2004)
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