Nanostructural effect on thermoelectric properties in Si films containing iron silicide nanodots
Nanostructural effect on thermoelectric properties in Si films containing iron silicide nanodots
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纳米结构对硅化铁纳米点硅薄膜热电性能的影响
DOI：
10.7567/1347-4065/ab5b58
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发表时间：
2020
影响因子：
1.5
通讯作者：
Nakamura Yoshiaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sakane Shunya;Ishibe Takafumi;Taniguchi Tatsuhiko;Hinakawa Takahiro;Hosoda Ryoya;Mizuta Kosei;Alam Md. Mahfuz;Sawano Kentarou;Nakamura Yoshiaki
