ミストCVD法によるsapphire基板上α-Ga203薄膜の成長
ミストCVD法によるsapphire基板上α-Ga203薄膜の成長
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雾气CVD法在蓝宝石衬底上生长α-Ga2O3薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
篠原 大輔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉元 貴志;李維涛;李維涛;李維涛;李維涛;李維涛;李維涛;Toshiyuki Kawaharamura;Toshiyuki Kawaharamura;Toshiyuki Kawaharamura;川原村 敏幸;Hiroyuki Nishinaka;篠原 大輔
