Fermi-level pinning in full metal/high-k/SiO2/Si stacks
Fermi-level pinning in full metal/high-k/SiO2/Si stacks
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全金属/高 k/SiO2/Si 堆叠中的费米能级钉扎
DOI：
10.1063/1.5005570
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发表时间：
2017
影响因子：
3.2
通讯作者：
Xiao Zhisong
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Huang Anping;Zhang Xinjiang;Li Yue;Wang Mei;Xiao Zhisong
