反射高速陽電子回折による最表面構造に関する研究

反射高速陽電子回折による最表面構造に関する研究
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利用反射快正电子衍射研究最外层表面结构

DOI:
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发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
深谷有喜
深谷有喜
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Y.Matsumoto;S.Sakai;S.Entani;Y.Takagi;T.Nakagawa;H.Naramoto;P.Avramov;T.Yokoyama;深谷有喜

文献摘要

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