分子線エピタキシー法によるGaAs基板上へのZnMgSTeの作製

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分子束外延法在GaAs衬底上制备ZnMgSTe

DOI:
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发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
杉谷航介,稲山優斗,湯本匠,赤岩和明,阿部友紀,市野邦男
杉谷航介,稲山優斗,湯本匠,赤岩和明,阿部友紀,市野邦男
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
豊田 健晟;三浦 陽子;真中 浩貴;杉谷航介,稲山優斗,湯本匠,赤岩和明,阿部友紀,市野邦男

文献摘要

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