GaやTaを添加した酸化スズ薄膜の化学状態
GaやTaを添加した酸化スズ薄膜の化学状態
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掺杂Ga和Ta的氧化锡薄膜的化学态
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
任イリュウ，高橋昌男
中科院分区：
文献类型：
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作者：
髙橋昌男，末木学，宮田直仁，茂庭昌弘;髙橋昌男，笹嶋一輝，小山恭平，茂庭昌弘;髙橋昌男，庄司奈々子;山本倖平，藤田隆史，髙橋昌男;任イリュウ，高橋昌男
