Grain boundary mediated leakage current in polycrystalline HfO2 films (Available online)
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多晶 HfO2 薄膜中的晶界介导的漏电流（在线提供）
DOI：
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发表时间：
2011
影响因子：
2.3
通讯作者：
G.Bersuker
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.McKenna;A.Shluger;V.Iglesias;M.Porti;M.Nafria;M.Lanza;G.Bersuker
