シリコン酸窒化膜内殻準位異常シフトの解析
シリコン酸窒化膜内殻準位異常シフトの解析
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氮氧化硅薄膜内层能级偏移异常分析
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高見貴弘，和田誠，遠田義晴
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshiharu Enta;Makoto Wada;Mariko Arita;and Takahiro Takami;遠田 義晴，長内 翔大，小笠原 崇仁;遠田義晴，永井孝幸，吉田太祐，長内翔大，小笠原崇仁;高見貴弘，和田誠，遠田義晴
