シリコン上のグラフェンによる高性能集積化デバイス
シリコン上のグラフェンによる高性能集積化デバイス
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硅基石墨烯高性能集成器件
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
尾辻泰一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Umahashi;Y.Kambayashi;M.Kato;Y.Hasegawa;H.Amano;and K.Usami;尾辻泰一
