Surface roughness of alumina films deposited by reactive r.f. sputtering
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DOI：
10.1016/s0040-6090(95)08514-9
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发表时间：
1996-09
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Ya Zhao;Y. Qian;Weichao Yu;Zuyao Chen
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ya Zhao;Y. Qian;Weichao Yu;Zuyao Chen
