電解フローセルを用いたCu+/HOCl反応系電解Fenton型プロセスの開発
電解フローセルを用いたCu+/HOCl反応系電解Fenton型プロセスの開発
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使用电解流通池的 Cu+/HOCl 反应系统开发电解 Fenton 型工艺
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
伊藤早紀，岸本直之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Saki ITO;Takehiro UKAWA;Naoyuki KISHIMOTO;Masaaki KATO;Hideo OTSU;伊藤早紀，岸本直之，加藤昌明，大津秀緒;伊藤早紀，岸本直之
