分子軌道-分子動力学計算によるHFO1123 の飽和密度および表面張力計算
分子軌道-分子動力学計算によるHFO1123 の飽和密度および表面張力計算
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利用分子轨道-分子动力学计算计算HFO1123的饱和密度和表面张力
DOI：
10.11322/tjsrae.19-37tg_em
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
俊夫 岩崎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
哲也 奥村;近藤 智恵子;浩平 干野;俊夫 岩崎
低 GWP 冷媒 HFO1123 と基本構造を同じくするエチレンを取り上げ, 分子動力学計算によって気液平衡系を再現し, 飽和密度と表面張力の予測を試みた. エチレンの力場には OPLS-AA を HFO1123 の力場には OPLS-AA/L と GAFF を併用した. ただし HFO1123 は極性分子であるため, 分子軌道計算により予め電荷の値を求める事とした. 飽和液密度の計算結果は, 大きく電荷の値によって変化し, B3LYP/6-31G** レベルの計算で求まる電荷を用いる場合に, 最も測定値と一致する事が分かった. エチレンは高温域で気液密度差と表面張力を共に過少評価する事が分かった. 一方 HFO1123 は, 飽和密度は測定値と良く一致するものの, 低温で表面張力が幾分過大に計算されることが分かった. HFO1123 の解析精度を向上させるためには, 分子配置と応力の両者を的確にするポテンシャルの修正方法を見出す必要がある.
影响因子：
2.9
作者：
Wang, Junmei;Wang, Wei;Case, David A.
通讯作者：
Case, David A.