斜め堆積スパッタ法により作製したInN薄膜のエレクトロクロミック現象の応答特性
斜め堆積スパッタ法により作製したInN薄膜のエレクトロクロミック現象の応答特性
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倾斜沉积溅射法制备InN薄膜电致变色现象的响应特性
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高井 治
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山崎純一;倉永知英;鷹羽秀隆;齋藤永宏;井上泰志;高井 治
