K.KASHIWAGI: "Hybrid Films Formed from Hexamethyldisiloxane and SiO by Plasma Process" Jpn.J.Appl.Phys.30. 1803-1807 (1991)
K.KASHIWAGI: "Hybrid Films Formed from Hexamethyldisiloxane and SiO by Plasma Process" Jpn.J.Appl.Phys.30. 1803-1807 (1991)
复制标题
K.KASHIWAGI：“通过等离子体工艺由六甲基二硅氧烷和 SiO2 形成的混合薄膜”Jpn.J.Appl.Phys.30。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
