ミニマルファブ向けヘリコンプラズマ源を用いたマルチターゲットスパッタリング装置の開発
ミニマルファブ向けヘリコンプラズマ源を用いたマルチターゲットスパッタリング装置の開発
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使用螺旋等离子体源为小型晶圆厂开发多靶溅射设备
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高橋和貴
中科院分区：
文献类型：
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作者：
高橋和貴，Christine Charles;Rod W Boswell;高橋和貴
