K.Goshima et al.: "Low Temperature Deposition of Poly-Crystalline Silicon Films from a Modified Inductively-Coupled Silane Plasma"Jpn.J.Appl.Phys.. 36,No.6A. 3655-3659 (1999)
K.Goshima et al.: "Low Temperature Deposition of Poly-Crystalline Silicon Films from a Modified Inductively-Coupled Silane Plasma"Jpn.J.Appl.Phys.. 36,No.6A. 3655-3659 (1999)
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K.Goshima等人：“来自改进的电感耦合硅烷等离子体的多晶硅膜的低温沉积”Jpn.J.Appl.Phys.36，No.6A。
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