溶液系大気圧ミストCVDによる硫化スズ（SnSx）薄膜の作製プロセスの開発
溶液系大気圧ミストCVDによる硫化スズ（SnSx）薄膜の作製プロセスの開発
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开发基于溶液的常压雾气 CVD 硫化锡 (SnSx) 薄膜的制造工艺
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
川原村敏幸
中科院分区：
文献类型：
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作者：
佐藤翔太;劉麗;G. T. Dang;川原村敏幸
