CMPにおけるウェーハ・研磨パッド間スラリー流れの可視化（第2報）パッド摩耗の影響の可視化に関する試み
CMPにおけるウェーハ・研磨パッド間スラリー流れの可視化（第2報）パッド摩耗の影響の可視化に関する試み
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CMP 中晶圆和抛光垫之间浆料流动的可视化（第二份报告） 尝试可视化垫磨损的影响
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
福田 明，石田 士，潮田拓海
中科院分区：
文献类型：
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作者：
大木隆太;安原鋭幸;雨宮隆;安原鋭幸;新谷一博，小林卓也，他;新谷一博，小林卓也，中井 遥，川原範夫 他;瀨川 歩，新谷一博，田中隆斗，北村鈴香，川原範夫;駒見宏輔，山田のどか，新谷一博，兼氏歩，桝井伸栄;米澤克隆，川口真史，兼氏歩，川原範夫，河村佳江，飯沼由嗣，新谷一博，小田忍，瀧真;佐々本丈嗣，川口真史，米澤克隆，兼氏歩，川原範夫，新谷一博，小田忍;小林卓也，新谷一博 他;川上秀彬，新谷一博 他;中井遥，新谷一博，小林卓也，川原範夫 他;小林卓也，新谷一博，中井遥，川原範夫 他;福田 明;福田 明，御手洗 真人;福田 明，秀毛春也，山縣 翔，渡辺健介;福田 明，石田 士，潮田拓海
