A.Yoshikawa: "A New In-situ Optical Probing Method in Heteroepitaxy:Surface Photo-Interference(SPI)and Its Application to the Study of ZnSe MOMBE Growth Process" 3rd Japan-Korea Joint Symposium“Advanced Science and Technology of Semiconductor Materials an
A.Yoshikawa: "A New In-situ Optical Probing Method in Heteroepitaxy:Surface Photo-Interference(SPI)and Its Application to the Study of ZnSe MOMBE Growth Process" 3rd Japan-Korea Joint Symposium“Advanced Science and Technology of Semiconductor Materials an
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A. Yoshikawa：“异质外延中的一种新的原位光学探测方法：表面光干涉（SPI）及其在ZnSe MOMBE生长过程研究中的应用”第三届日韩联合研讨会“半导体材料与先进科学技术”
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