K.Nakamura, S.Yoneda and H.Sugai: "Chamber Wall Control by Ion Bombardment in Oxide Etcher"Proc.20th Symp.Dry Process (Japan). 269-274 (1998)
K.Nakamura, S.Yoneda and H.Sugai: "Chamber Wall Control by Ion Bombardment in Oxide Etcher"Proc.20th Symp.Dry Process (Japan). 269-274 (1998)
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K.Nakamura、S.Yoneda 和 H.Sugai：“氧化物蚀刻机中离子轰击的室壁控制”Proc.20th Symp.Dry Process（日本）。
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