A new route for high rate and low temperature epitaxy by cluster assisted mesoplasma CVD (Invited)
A new route for high rate and low temperature epitaxy by cluster assisted mesoplasma CVD (Invited)
复制标题
团簇辅助中间质CVD高速低温外延新途径（特邀）
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Kambara,J.M.A.Diaz,T.Yoshida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kuriyama;R.;Tanaka;Y.;Akiyama;S.;Sato;Y.;M.Kambara,J.M.A.Diaz,T.Yoshida
