Optical and electronic properties of HWCVD and PECVD silicon films irradiated using excimer and Nd:Yag lasers
Optical and electronic properties of HWCVD and PECVD silicon films irradiated using excimer and Nd:Yag lasers
复制标题
使用准分子和 Nd:Yag 激光器辐照的 HWCVD 和 PECVD 硅薄膜的光学和电子特性
DOI：
10.1016/j.tsf.2005.07.138
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Rose
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Mohammed Zubair Mohammed Shamim (Shaikh);K. O'Neill;S. Anthony;S. Persheyev;M. Rose
