Fundamental Evaluation of Resist on EUV Lithography at NewSUBARU Synchrotron Light Facility
Fundamental Evaluation of Resist on EUV Lithography at NewSUBARU Synchrotron Light Facility
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NewSUBARU 同步加速器光源设施 EUV 光刻抗蚀剂的基本评估
DOI：
10.2494/photopolymer.34.49
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发表时间：
2021
影响因子：
0.8
通讯作者：
Yamakawa Shinji
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Watanabe Takeo;Harada Tetsuo;Yamakawa Shinji
