シリカ細孔内における(CCG)n ヘアピン型2 次構造の安定性
シリカ細孔内における(CCG)n ヘアピン型2 次構造の安定性
复制标题
二氧化硅孔隙中(CCG)n发夹二级结构的稳定性
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
渋屋祐太，山口央
中科院分区：
文献类型：
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作者：
那須一啓;渋屋祐太，山口央
