EuNバッファー層を用いたInN薄膜のエピタキシャル成長
EuNバッファー層を用いたInN薄膜のエピタキシャル成長
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使用EuN缓冲层外延生长InN薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小林篤
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R.Ohba;J.Ohta;K.Shimomoto;T.Fujii;K.Okamoto;A.Aoyama;T.Nakano;A.Kobayashi;H.Fujioka;M.Oshima;K. Mitamura;小林篤;Atsushi Kobayashi;小林篤;小林篤;小林篤;小林篤;新木和孝;小林篤
