T.Matsuura, et al: "Atomic-Layer Etchig Control of Si and Ge Using an Ultraclean ECR Plasma" National Symp.Am.Vac.Soc.44. 176 (1997)
T.Matsuura, et al: "Atomic-Layer Etchig Control of Si and Ge Using an Ultraclean ECR Plasma" National Symp.Am.Vac.Soc.44. 176 (1997)
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T.Matsuura 等人：“使用超洁净 ECR 等离子体对 Si 和 Ge 进行原子层蚀刻控制”National Symp.Am.Vac.Soc.44。
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