Sputtering yield of low energy photoemission-assisted plasma Ar+-ion source for surface smoothing
Sputtering yield of low energy photoemission-assisted plasma Ar+-ion source for surface smoothing
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用于表面平滑的低能光电子辅助等离子体Ar离子源的溅射产率
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shuichi Ogawa and Yuji Takakuwa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Saijian Ajia;Yuki Kotanigawa;Shuichi Ogawa and Yuji Takakuwa
