Effects of Processing Parameters on Internal Stress of BN Films Prepared by Ion Mixing and Vapor Deposition, New Trend in Applied Plasma Science and Technology
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工艺参数对离子混合与气相沉积制备BN薄膜内应力的影响，应用等离子体科技新趋势
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Uchida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Hanaki;B. Leng;H. Uchida
