Characterization and growth of ZnSTe epilayers by hot-wall epitaxy
Characterization and growth of ZnSTe epilayers by hot-wall epitaxy
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热壁外延 ZnSTe 外延层的表征和生长
DOI：
10.1016/s0022-0248(99)00738-1
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发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y. Choi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Yu;Sungun Nam;Jongkwang Rhee;O. Byungsung;Kap;Y. Choi
