A.Noya,他3名: "Auger electron spectroscopy study on the stability of the interface between deposited Cu_9Al_4 intermatallic compound film and Si" Jpn.J.Appl.Phys.30. (1991)
A.Noya,他3名: "Auger electron spectroscopy study on the stability of the interface between deposited Cu_9Al_4 intermatallic compound film and Si" Jpn.J.Appl.Phys.30. (1991)
复制标题
A.Noya等3人：“沉积Cu_9Al_4金属间化合物薄膜与Si之间界面稳定性的俄歇电子能谱研究”Jpn.J.Appl.Phys.30（1991）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
