新型HfO2栅介质中的频散效应及参数提取方法
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DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
TALLAVARJULA Sai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
刘红侠;匡潜玮;栾苏珍;ZHAO Aaron;TALLAVARJULA Sai
