A Shadow-Mask to make half Million Submicron Square Patterns at Once
A Shadow-Mask to make half Million Submicron Square Patterns at Once
复制标题
一次制作五十万个亚微米方形图案的荫罩
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Fujita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.C.Tarhan;A.Tixier-Mita;H.Fujita
