Direct photo patterning of mesoporous Silica thin film via UV-induced dehydration of block copolymers
Direct photo patterning of mesoporous Silica thin film via UV-induced dehydration of block copolymers
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通过嵌段共聚物的紫外线诱导脱水对介孔二氧化硅薄膜进行直接光图案化
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡田 健司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Nguyen Duy Vy;Takuya Iida;Yuuta Moriyama;岡田 健司
